Neoc 電子顯微鏡高解析度Osmium鍍膜機
來自日本第一品牌,長達47年電子顯微鏡前處理膜技術。

特色:
  1. 無電荷累積問題,可避免樣品傷害。
  2. 無樣品熱傷害問題,適合光阻、高分子材料、生物樣品等低溫需求樣品。
  3. 0.25nm 均勻薄膜,無粒狀分佈,可達到表面完整結構之檢測。
  4. PECVD技術,適合多孔性複雜結構完整包覆,達到凹凸面微細結構檢測。
  5. 快速省時,達到即時性檢測。
規格:
型號:NEOC-Pro
樣口載台尺寸: 直徑150X高度70mm
載台可裝載樣品數: 直徑15mm X 7個, 直徑10mm X 35個
自動排氣系統: Yes
安全裝置檢測: Yes
Pump需求: 100L/min


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