化學氣相沉積真空/氣氛爐
Centorr / Vaccum Industries ( 簡稱CVI )之化學氣相沉積真空/氣氛爐 , 主要用於航太 , 汽車 , 半導體 , 及結構陶瓷方面之BN , SI3N4 , SiC 及Al2O3之鍍膜 . 
主要特點 :
1. 操作溫度可達2300 °C , 溫度均勻性  + / - 10 °C .  
2. 石墨電阻式加熱區 , 可克服CVD嚴苛環境 . 3. 針對碳的化學氣相滲透或超高溫之應用 , 也可提供感應加熱式 .  
4. 惰性及製程氣體使用mass flow控制器 , 氣體流量可精確控制 , 再現性高 . 
5. 真空抽氣系統 , 包含機械邦浦 , 魯式邦浦 , 或選配的乾式邦浦 .  
6. 針對MTS , BCl3 , H2 , CH4 , C3H8之惰性及製程氣體管理分配系統 .  
7. 圖像化控制面板 , 可清楚顯式真空邦浦之位置 , 系統狀態 .